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等離子體和固體、液體或氣體一樣，是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。等離子清洗技術(shù)的工作原理主要是激活鍵能的交聯(lián)作用，是對材料表面轟擊的物理作用和形成新官能團(tuán)的化學(xué)作用；其主要包含四大應(yīng)用：表面清洗，表面激活，蝕刻和涂層。

等離子體清洗技術(shù)分類、特點(diǎn)

等離子體清洗技術(shù)根據(jù)反應(yīng)類型不同可分為兩類：一是等離子體物理清洗，即借助活性粒子和高能射線轟擊而使污染物脫離；二是等離子體化學(xué)清洗，即通過活性粒子與雜質(zhì)分子反應(yīng)而使污染物揮發(fā)脫離。另外，對等離子體清洗類型具有一定影響的主要因素及其最大特點(diǎn)：

（1）激發(fā)頻率對等離子體的清洗類型具有一定影響。常用的等離子體激發(fā)頻率與特性如表1所示。

表1 等離子體激發(fā)頻率類型

常用的等離子體激發(fā)頻率有三種：激發(fā)頻率為40kHz的等離子體為超聲等離子體，13.56MHz的等離子體為射頻等離子體，2.45GHz的等離子體為微波等離子體。不同等離子體產(chǎn)生的自偏壓不一樣，超聲等離子體的自偏壓為1000V左右，射頻等離子體的自偏壓為250V左右，微波等離子體的自偏壓很低，只有幾十伏，而且三種等離子體的機(jī)制不同。

（2）工作氣體種類對等離子體清洗類型也具有一定影響。例如，惰性氣體氬氣（Ar2）、氮?dú)猓∟2）等被激發(fā)產(chǎn)生的等離子體主要用于物理清洗，借助轟擊作用使材料表面清潔；而反應(yīng)性氣體氧氣（O2）、氫氣（H2）等被激發(fā)產(chǎn)生的等離子體則主要用于化學(xué)清洗，借助活潑自由基與污染物（多為碳?xì)浠衔铮┌l(fā)生化學(xué)反應(yīng)，產(chǎn)生一氧化碳、二氧化碳、水等小分子，從材料表面移除。

（3）等離子體清洗類型對清洗效果具有一定的影響。等離子體物理清洗可使材料表面的粗糙度增加，有助于提高材料表面的附著力；等離子體化學(xué)清洗可以顯著增加材料表面的含氧、含氮以及其他類型的活性基團(tuán)，有助于改善材料的表面浸潤性。

（4）等離子體清洗的最大特點(diǎn)是不分處理對象的基材類型均可進(jìn)行處理，對金屬、半導(dǎo)體、氧化物、有機(jī)物和大多數(shù)高分子材料也能進(jìn)行很好的處理，只需要很低的氣體流量，并可實(shí)現(xiàn)整體和局部以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗。在等離子體清洗技術(shù)中，不使用任何化學(xué)溶劑，因此基本上無污染物，有利于環(huán)境保護(hù)。此外，其生產(chǎn)成本較低，清洗具有良好的均勻性和重復(fù)性、可控性，易實(shí)現(xiàn)批量生產(chǎn)。