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隨著溫度的上升物質(zhì)的存在狀態(tài)一般會呈現(xiàn)出固態(tài)液態(tài)氣態(tài)三種物態(tài)的轉(zhuǎn)化過程我們把這三種基本形態(tài)稱為物質(zhì)的三態(tài)。那么對于氣態(tài)物質(zhì)溫度升至幾千度時由于物質(zhì)分子熱運動加劇相互間的碰撞就會使氣體分子產(chǎn)生電離，這樣物質(zhì)就變成由自由運動并相互作用的正離子和電子組成的混合物。我們把物質(zhì)的這種存在狀態(tài)稱為物質(zhì)的第四態(tài)它與固態(tài)、液態(tài)和氣態(tài)物質(zhì)比較有不同的物理和化學(xué)性質(zhì)。

等離子體清洗技術(shù)包括輝光放電等離子體清洗、電暈放電等離子體清洗、介質(zhì)阻擋放電等離子體清洗、滑動電弧放電等離子體清洗、等離子體弧清洗技術(shù)。

輝光放電等離子體清洗：輝光放電屬于低氣壓放電工作壓力一般都低其構(gòu)造是在封閉的容器內(nèi)放置兩個平行的電極板利用電子將中性原子和分子激發(fā)當(dāng)粒子由激發(fā)態(tài)降回至基態(tài)時會以光的形式釋放出能量。電源可以為直流電源也可以是交流電源。每種氣體都有其典型的輝光放電顏色熒光燈的發(fā)光即為輝光放電。目前的應(yīng)用范圍在實驗室、半導(dǎo)體工業(yè)等。

電暈放電等離子體清洗：輝光放電只能在低氣壓下工作而電暈放電可以在大氣壓下工作但需要足夠高的電壓以增加電暈部位的電場。一般在高壓和強電場的工作條件下不容易獲得穩(wěn)定的電暈放電亦容易產(chǎn)生局部的電弧放電。為提高穩(wěn)定性可將反應(yīng)器做成非對稱的電極形式。電暈放電反應(yīng)器的設(shè)計主要參考電源的性質(zhì)而有所不同有直流電暈放電和脈沖式電暈放電。由于電暈放電的范圍小、能量低、放電的能量不均勻通常應(yīng)用范圍僅局限于實驗室。利用電暈放電可以進行靜電除塵、污水處理、空氣凈化等。

介質(zhì)阻擋放電等離子體清洗：介質(zhì)阻擋放電是有絕緣介質(zhì)插入放電空間的一種非平衡態(tài)氣體放電又稱介質(zhì)阻擋電暈放電或無聲放電。介質(zhì)阻擋放電能夠在高氣壓和很寬的頻率范圍內(nèi)工作通常的工作氣壓為少一護。電源頻率可從至。電極結(jié)構(gòu)的設(shè)計形式多種多樣。在兩個放電電極之間充滿某種工作氣體并將其中一個或兩個用絕緣介質(zhì)覆蓋也可以將介質(zhì)直接懸掛在放電空間或采用顆粒狀的介質(zhì)填充其中當(dāng)兩電極間施加足夠高的交流電壓時電極間的氣體會被擊穿而產(chǎn)生放電即產(chǎn)生了介質(zhì)阻擋放電。在實際應(yīng)用中管線式的電極結(jié)構(gòu)被廣泛的應(yīng)用于各種化學(xué)反應(yīng)器中而平板式電極結(jié)構(gòu)則被廣泛的應(yīng)用于工業(yè)中的高分子和金屬薄膜及板材的改性、接枝、表面張力的提高、清洗和親水改性中。

滑動電弧放電等離子體清洗：電源在兩電極上施加高壓引起電極間流動的氣體在電極最窄部分電擊穿。一旦擊穿發(fā)生電源就以中等電壓提供足以產(chǎn)生強力電弧的大電流電弧在電極的半橢圓形表面上向右膨脹不斷伸長直到不能維持為止。電弧熄滅后重新起弧周而復(fù)始。視覺上滑動電弧放電等離子體就像火焰一般但其平均溫度卻比較低即使將餐巾紙放在等離子體焰上也不會燃燒?；瑒与娀》烹姷入x子體通常應(yīng)用于材料的表面處理。

等離子體弧清洗：利用等離子體弧為介質(zhì)的一種等離子體清洗技術(shù)清洗所需要壓縮電弧靠等離子發(fā)生器產(chǎn)生。在等離子發(fā)生器中圓柱形陰極尖端和與其同心的漏斗狀陽極配置構(gòu)成電弧室切向或軸向送進的工作氣體流經(jīng)噴嘴中的電弧時發(fā)自陰極的電子與氣體分子或原子相互作用使氣體離解或電離工作氣體在電弧區(qū)被加熱并在徑向、軸向膨脹加速噴出噴嘴形成等離子射流照射被清洗物體表面從而清除污染物。

上述幾種等離子體清洗技術(shù)屬于冷等離子清洗技術(shù)它的機理是主要依靠處于“等離子態(tài)”的物質(zhì)的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。從目前各類清洗方法來看可能等離子體清洗也是所有清洗方法中最為徹底的剝離式的清洗。