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等離子體是物質(zhì)存在的一種基本形態(tài)（被稱為物質(zhì)的第四態(tài)），是由原子，電子，分子，離子或自由基組合而成，等離子清洗機就是通過物理、化學(xué)作用對被清洗物表面進行處理，實現(xiàn)去除分子水平污染物的一種工藝過程，同時也可提高其表面活性。

等離子體可以通過直流或高頻交流電場產(chǎn)生。在刻蝕中已很少用直流而采用交流。交變頻率根據(jù)電信規(guī)定要求一般有中頻（MF）40KHz、射頻(RF)13.56MHz、微波頻率(MW)2.45GHz。三種頻率的等離子清洗機工作機理和特性有一定的差異，40KHz等離子清洗機主要以轟擊為主，是物理過程，適應(yīng)于清洗，材料去除速率較快；13.56MHz等離子清洗機物理、化學(xué)過程都有，清洗和刻蝕都可以適應(yīng)，刻蝕是各向異性；2.45GHz等離子清洗機主要是化學(xué)為主，各向同性，適應(yīng)有敏感電路或材料的清洗，材料去除速率較慢。

物理方式獲得刻蝕的各向異性，但選擇比低和伴隨轟擊損傷；而化學(xué)方式獲得高刻蝕速率和高選擇比但刻蝕是各向同性。結(jié)合化學(xué)和物理刻蝕特點，合理對這兩種方式進行優(yōu)化控制則可以即得到各向異性輪廓和合理的選擇比及較低的離子轟擊缺陷。等離子清洗機電源激勵頻率與離子密度、電源頻率與等離子體自偏壓之間及的大致關(guān)系：頻率越高，等離子體離子密度越高；頻率越高，自偏壓越低。

等離子體自偏壓和激勵頻率的關(guān)系圖見圖1-1

圖 1-1 等離子體激發(fā)頻率與自偏壓的關(guān)系

圖2-2是粒子能量和粒子密度隨電場頻率變化的關(guān)系，從圖中可以清晰地看出粒子密度與電源頻率成正比關(guān)系，而粒子能量與之相反與電源放電頻率成反比關(guān)系。當(dāng)頻率為13.56MHz時粒子能量與粒子密度相對平衡，由此可知國際通用射頻電源頻率的由來。

圖 2 -2 粒子能量和密度與電源頻率的關(guān)系

目前，國內(nèi)等離子清洗設(shè)備廠商使用的電源頻率多為40KHz中頻等離子清洗機和13.56MHz射頻等離子清洗機。此類技術(shù)相對比較成熟，市場上的設(shè)備種類也較多。