產(chǎn)品簡介
等離子去膠機主要用于于晶圓去膠或掩膜去除等工藝，其由真空與壓力控制系統(tǒng)、圓柱狀石英腔體反應(yīng)腔室、工藝氣體與控制系統(tǒng)、PLC控制系統(tǒng)、射頻及其匹配系統(tǒng)等構(gòu)成。
等離子去膠機的原理:在石英腔室中，抽真空后通入適量的氧氣，在射頻電源創(chuàng)造的高頻電磁場中，氧氣被電離成O2-、O2+、O-、O+、氧原子O、臭氧等活潑的等離子體，其中氧原子能量很高，在高頻電場的輔助下可以使基片上的光致抗蝕劑與其快速發(fā)生氧化反應(yīng)生成CO、CO2、H2O和其它揮發(fā)性氧化物，在真空狀態(tài)下以氣體形式被抽出反應(yīng)腔，實現(xiàn)去膠的目的。
等離子去膠具有操作簡單、去膠效率高、環(huán)保、成本低，去膠后晶圓表面干凈光潔、無劃痕等優(yōu)點，在去膠工藝、掃底膜工藝中具有不可替代的作用。
產(chǎn)品參數(shù)
| 型號 | NE-Q15H |
| 功率 | 0-500W 連續(xù)可調(diào) |
| 頻率 | 13.56MHz數(shù)字全自動阻抗匹配 |
| 腔體材質(zhì) | 石英耐熱玻璃 |
| 腔體容積 | 15L |
| 腔體尺寸圓形） | Φ250×300（D）mm |
| 氣體流量控制器 | 2 路 MFC 質(zhì)量流量控制器， 0-300sccm |
| 氣路數(shù)量 | 2 路，支持空氣，氧氣等 （如需接入腐蝕性氣體，請?zhí)崆案嬷?/td> |
| 真空計 | 皮拉尼高精密電阻式真空 |
| 極限真空度 | 1PA |
| 控制系統(tǒng) | PLC+7寸觸摸屏 |
| 等離子產(chǎn)生方式 | ICP電感耦合 |
| 電源供應(yīng) | 220V |
| 外形尺寸 | 753mm(L)×793mm(W) ×1482 mm(H) |
產(chǎn)品應(yīng)用
光刻膠去除
去除基片殘膠
有機物清洗
掃底膜工藝
表面活化
表面親水處理
應(yīng)用案例
等離子技術(shù)
Support
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